專業(yè)技術(shù)支持,穩(wěn)定供貨保障
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7月21日消息,由于市場預(yù)期下滑,ASML大砍EUV光刻機的出貨量預(yù)期,將原本計劃出貨55臺,縮減到了40臺,減少了近150億的營收空間!
今年,全球半導(dǎo)體市場從產(chǎn)能緊張已經(jīng)轉(zhuǎn)向過剩,部分領(lǐng)域跌價跌得厲害,芯片價格下滑也會影響廠商的生產(chǎn)計劃,最終導(dǎo)致的結(jié)果就是ASML一度供不應(yīng)求的EUV光刻機今年出貨量減少15臺。
ASML昨天發(fā)布了2022年Q2季度財報,當(dāng)季凈銷售額為54.31億歐元,較上年同期同比增長35%。凈利潤較上年同期同比增長36%。
雖然業(yè)績大漲,但是ASML對全年的預(yù)期更加悲觀,從之前預(yù)期增長20%下調(diào)到了增長10%,其中一個重要原因就是EUV光刻機的出貨量預(yù)期大砍。
此前據(jù) BusinessKorea 報道,三星已就引進(jìn)今年生產(chǎn)的 EUV 光刻設(shè)備和計劃于明年推出的 High-NA EUV 光刻設(shè)備達(dá)成了協(xié)議。High-NA EUV 是下一代光刻設(shè)備,與現(xiàn)有的 EUV 光刻設(shè)備相比,可以雕刻出更精細(xì)的電路,其被認(rèn)為是一個改變游戲規(guī)則的設(shè)備,將決定 3 納米以下代工市場技術(shù)競賽的贏家。
據(jù)悉,ASML現(xiàn)有的英特爾、臺積電、三星這些大客戶都預(yù)訂了NA EUV光刻機,為將來量產(chǎn)2nm及以下芯片做準(zhǔn)備。
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