據(jù)消息稱，近期中科院傳出喜訊，國產(chǎn)光刻機(jī)研發(fā)工作取得了關(guān)鍵性突破。據(jù)了解中科院下屬的上海光學(xué)機(jī)械研究所近日成功攻克EUV光刻機(jī)上的OPC技術(shù)，此項(xiàng)技術(shù)的掌握，使得在硬件不動(dòng)的的情況下優(yōu)化光刻機(jī)，提升光刻機(jī)分辨率，使得制造更加的高效。

就整機(jī)而言，上海微電子完全具備了90納米光刻機(jī)的整機(jī)制造能力，目前在28納米光刻機(jī)上進(jìn)行突破，預(yù)計(jì)會(huì)在年底開始下線生產(chǎn)。清華研究所傳出消息，已經(jīng)與德國聯(lián)邦技術(shù)學(xué)院達(dá)成了合作，進(jìn)行更加先進(jìn)的研發(fā)工作。

此前光刻機(jī)制造商阿斯麥和張忠謀都曾公開表示，中國無法造出一樣的光刻機(jī)。一個(gè)國家也不可能建立完整的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈。但是對于我們在光刻機(jī)這一領(lǐng)域所獲得的新進(jìn)展，可以來講，也是臺(tái)積電以及阿斯麥萬萬沒料到的。

國內(nèi)在半導(dǎo)體領(lǐng)域進(jìn)行自主研發(fā)，所獲得的成果令人十分欣喜的，按照目前來看，也就意味著不遠(yuǎn)的將來，國內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)無需再收到任何國家的阻礙和限制。