近日國產芯片有好消息傳出，在光刻機領域中，上海微電子表示，已經順利完成28nm光刻機的研發(fā)工作，預計將于今年年底或明年年初實現(xiàn)量產，雖然與阿斯麥的光刻機有一定的差距，但是已經能夠實現(xiàn)7納米工藝的量產，從今天起duv光刻機也有了國產替代化產品。

而在國產芯片方面，根據數據顯示來看，國內企業(yè)5月份芯片產能已經達到了299億顆，同比上漲了37.6%，而且1~5月的國產芯片總產能已經達到了1399億顆，同比增長了40%。

值得一提的是大部分芯片都是28納米等等成熟制程的芯片。但要知道，對于國內來講，28納米等成熟制程的芯片，已經足以滿足國內90%以上的需求。

在EDA方面，此前EDA軟件一直由國外巨頭把控，而想要完成晶體管電路的布局，只能依靠電子設計自動化——即EDA軟件，美國的三大EDA巨頭幾乎占據了全球80%以上的市場份額。但最新消息是，深交所已經正式受理中國EDA先行者華大九天的創(chuàng)業(yè)板IPO的申請，根據此次招股書顯示，此次項目的募集資金為25.5億元，而這些錢將會用在EDA的升級開發(fā)領域。

此次舉措足以證明，我們想要向高端EDA進軍的決心，根據相關數據顯示，中國在2000年就已經擁有660億的市場規(guī)模，國內華大九天雖然是領軍企業(yè)，但是在20年時間內的收入僅僅只有4億，在未來，EDA國產化是必然趨勢，雖然在國內是屬于遙遙領先的，但是與美國的巨頭比起來還有很大的發(fā)展空間。

目前國產DUV光刻機已經即將實現(xiàn)14納米以及7納米的量產工藝，而美國的三大巨頭EDA也已經在實踐5納米，另外華大九天之間還在突破14納米。相信在不就的將來，國產制造也會成為一顆新星，在半導體領域實現(xiàn)更大的突破。